三村和仙

ミムラタカノリ (Takanori Mimura)

基本情報

所属: 学習院大学理学部化学科助教

学位: 博士（工学）(2020年3月東京工業大学物質理工学院材料系)

研究者番号: 40965802
ORCID ID: https://orcid.org/0000-0003-1358-2962
J-GLOBAL ID: 202201019029384944
researchmap会員ID: R000034961

研究キーワード

研究分野

ナノテク・材料 / 無機物質、無機材料化学 /

経歴

2022年9月 - 現在

東京工業大学特別研究員
2022年4月 - 現在

学習院大学理学部化学科助教
2020年8月 - 2022年3月

University of Virginia Department of Materials Science and Engineering Post-Doctoral Research Associate
2020年4月 - 2020年7月

東京工業大学物質理工学院材料系材料コース研究員
2017年4月 - 2020年3月

日本学術振興会特別研究員 DC1

学歴

2017年4月 - 2020年3月

東京工業大学物質理工学院材料系
2015年4月 - 2017年3月

東京工業大学総合理工学研究科物質科学創造専攻
2013年4月 - 2015年3月

群馬工業高等専門学校環境都市工学科

受賞

論文

Data-Driven Analysis of High-Resolution Hyperspectral Image Data Sets through Nanoscale Capacitance–Voltage Measurements to Visualize Ferroelectric Domain Dynamics

Yoshiomi Hiranaga, Yuki Noguchi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuo Cho

ACS Applied Nano Materials 7(8) 8525-8536 2024年4月9日
Phase Identification of 850 nm Thick 7%YO_1.5–93%HfO₂ Films by Surface and Cross-Sectional Raman Spectroscopies

Takanori Mimura, Yuma Takahashi, Takahisa Shiraishi, Masanori Kodera, Reijiro Shimura, Keisuke Ishihama, Kazuki Okamoto, Hiroki Moriwake, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Yasuhiro Fujii, Akitoshi Koreeda, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials 6(4) 2500-2506 2024年4月5日
No‐Heating Deposition of Ferroelectric x%YO1.5–(100−x%)(Hf1−yZry)O2 Films

Takanori Mimura, Reijiro Shimura, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo

physica status solidi (a) 2023年6月25日
Systematic Investigation of Ferroelectric Properties in x%YO1.5–(100–x%)Hf1–yZryO2 Films

Takanori Mimura, Yuki Tashiro, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials 2023年3月28日
Origin of Ferroelectric Phase Stabilization via the Clamping Effect in Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide Thin Films

Shelby Fields, Truong Cai, Samantha T. Jaszewski, Alejandro Salanova, Takanori Mimura, Helge H. Heinrich, Michael David Henry, Kyle P. Kelley, Brian W. Sheldon, Jon F. Ihlefeld

Advanced Electronic Materials 8(12) 2200601-2200601 2022年12月

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MISC

HfO₂基強誘電体の相転移における熱履歴

三村和仙, 清水荘雄, 清水荘雄, 坂田修身, 坂田修身, 舟窪浩

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 77(1) 2022年
Y-置換HfO₂基材料の強誘電性の発現

清水荘雄, 清水荘雄, 田代裕貴, 三村和仙, 舟窪浩

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web) 34th 2021年
強誘電体薄膜における分極反転挙動のナノスケールマッピング

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
スパッタリング法によるY-HZO強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性および圧電特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 清水荘雄, 白石貴久, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
HfO₂基強誘電体膜のラマン分光測定

高橋雄真, 白石貴久, 小寺正徳, 志村礼司郎, 三村和仙, 森分博紀, 田口綾子, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年

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講演・口頭発表等

High pressure synthesis of ferroelectric bulk Y doped HfO2

Takanori Mimura, Naoki Noda, Yoshiyuki Inaguma

13th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics (KJC-FE13) 2022年9月27日招待有り
Stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 based films

Takanori Mimura, Yu-ki Tashiro, Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Yoshio Katsuya, Osami Sakata

IEEE IFCS-ISAF 2020 Conference 2020年7月20日招待有り

教育業績（担当経験のある科目）

2022年4月 - 現在

基礎科学実験 (学習院大学)
2022年4月 - 現在

化学実験 (学習院大学)
2022年4月 - 現在

化学演習 (学習院大学)

共同研究・競争的資金等の研究課題

任意の特性を発現する新規ハフニア基強誘電体の創生

日本学術振興会科学研究費助成事業特別研究員奨励費 2017年4月 - 2020年3月

三村和仙

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三村 和仙

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研究分野

経歴

学歴

受賞

論文

MISC

講演・口頭発表等

教育業績（担当経験のある科目）

共同研究・競争的資金等の研究課題

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