三村和仙

ミムラタカノリ (Takanori Mimura)

基本情報

所属: 学習院大学理学部化学科助教

学位: 博士（工学）(2020年3月東京工業大学物質理工学院材料系)

研究者番号: 40965802
ORCID ID: https://orcid.org/0000-0003-1358-2962
J-GLOBAL ID: 202201019029384944
researchmap会員ID: R000034961

研究キーワード

研究分野

ナノテク・材料 / 無機物質、無機材料化学 /

経歴

2022年9月 - 現在

東京工業大学特別研究員
2022年4月 - 現在

学習院大学理学部化学科助教
2020年8月 - 2022年3月

University of Virginia Department of Materials Science and Engineering Post-Doctoral Research Associate
2020年4月 - 2020年7月

東京工業大学物質理工学院材料系材料コース研究員
2017年4月 - 2020年3月

日本学術振興会特別研究員 DC1

学歴

2017年4月 - 2020年3月

東京工業大学物質理工学院材料系
2015年4月 - 2017年3月

東京工業大学総合理工学研究科物質科学創造専攻
2013年4月 - 2015年3月

群馬工業高等専門学校環境都市工学科

受賞

論文

Data-Driven Analysis of High-Resolution Hyperspectral Image Data Sets through Nanoscale Capacitance–Voltage Measurements to Visualize Ferroelectric Domain Dynamics

Yoshiomi Hiranaga, Yuki Noguchi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuo Cho

ACS Applied Nano Materials 7(8) 8525-8536 2024年4月9日
Phase Identification of 850 nm Thick 7%YO_1.5–93%HfO₂ Films by Surface and Cross-Sectional Raman Spectroscopies

Takanori Mimura, Yuma Takahashi, Takahisa Shiraishi, Masanori Kodera, Reijiro Shimura, Keisuke Ishihama, Kazuki Okamoto, Hiroki Moriwake, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Yasuhiro Fujii, Akitoshi Koreeda, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials 6(4) 2500-2506 2024年4月5日
No‐Heating Deposition of Ferroelectric x%YO1.5–(100−x%)(Hf1−yZry)O2 Films

Takanori Mimura, Reijiro Shimura, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo

physica status solidi (a) 2023年6月25日
Systematic Investigation of Ferroelectric Properties in x%YO1.5–(100–x%)Hf1–yZryO2 Films

Takanori Mimura, Yuki Tashiro, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials 2023年3月28日
Origin of Ferroelectric Phase Stabilization via the Clamping Effect in Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide Thin Films

Shelby Fields, Truong Cai, Samantha T. Jaszewski, Alejandro Salanova, Takanori Mimura, Helge H. Heinrich, Michael David Henry, Kyle P. Kelley, Brian W. Sheldon, Jon F. Ihlefeld

Advanced Electronic Materials 8(12) 2200601-2200601 2022年12月

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MISC

HfO₂基強誘電体の相転移における熱履歴

三村和仙, 清水荘雄, 清水荘雄, 坂田修身, 坂田修身, 舟窪浩

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 77(1) 2022年
Y-置換HfO₂基材料の強誘電性の発現

清水荘雄, 清水荘雄, 田代裕貴, 三村和仙, 舟窪浩

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web) 34th 2021年
強誘電体薄膜における分極反転挙動のナノスケールマッピング

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
スパッタリング法によるY-HZO強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性および圧電特性評価

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応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
HfO₂基強誘電体膜のラマン分光測定

高橋雄真, 白石貴久, 小寺正徳, 志村礼司郎, 三村和仙, 森分博紀, 田口綾子, 舟窪浩

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応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年
スパッタリング法によるHfO₂基強誘電体厚膜のシリコン基板上への室温製膜とその電気特性および圧電特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩

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三村和仙, 志村礼司郎, 舟窪浩, 清水荘雄

超音波Techno 32(5) 2020年
強誘電性ハフニア薄膜におけるドメイン構造のイメージング

木口賢紀, 白石貴久, 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩, 今野豊彦

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スパッタリング法を用いたY:HfO₂強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価

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木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

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応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年
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応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年
HfO₂基薄膜の電界誘起相転移

田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 舟窪浩

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スパッタリング法を用いたY:HfO₂強誘電体膜の室温成膜

三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
エピタキシャル成長したHfO₂基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性

三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM) 2018 2018年
直方晶相ハフニア薄膜のドメイン構造の電子エネルギー損失分光

木口賢紀, CHOI Sujin, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM) 31st 2018年
エピタキシャルHfO₂基強誘電体における強誘電特性の膜厚依存性

三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年
一軸加圧下熱処理によるBi₂VO_5+δ薄膜の配向性固相結晶化と特性評価

伊藤翔陽, 難波諒太郎, 三村和仙, 金子智, 金子智, 舟窪浩, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年
スパッタリング法によるHfO₂基強誘電体の厚膜化とその電気特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
時間分解放射光X線回折を用いた菱面体晶PZTにおける非180°ドメインスイッチングの周波数応答特性の評価

清水荘雄, 江原祥隆, 三村和仙, 安井伸太郎, 山田智明, 今井康彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
STEM-EELS法による直方晶相ハフニア薄膜の結晶構造評価

木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
(Zn_2-yEu_y)(Ti_xSn_1-x)O₄ (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 0.5)蛍光体の合成と発光特性評価

平靖之, 三村和仙, 中村稀星, 中野裕美

材料 67(6) 2018年
酸化ハフニウム基強誘電体の基礎特性の解明

舟窪浩, 三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀

応用物理 87(12) 2018年
Y₂O₃-HfO₂エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集 55th 2017年
HfO₂基強誘電体のドメイン構造と電場誘起スイッチング

清水荘雄, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 勝矢良雄, 舟窪浩

エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集 37th 2017年
スパッタリング法によるY₂O₃-HfO₂強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
電界印加下における正方晶Pb(Zr,Ti)O₃膜の結晶構造の時間応答

佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 根本祐一, 清水荘雄, 今井康彦, 内田寛, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
走査型非線形誘電率顕微鏡を用いたナノスケール分極反転過程の動的観察

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
エピタキシャルHfO₂基膜における強誘電相の安定性-RE₂O₃-HfO₂vs ZrO₂-HfO₂-

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
エピタキシャルPZT膜におけるマルチドメイン構造と面内歪の緩和

佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 清水荘雄, 山田智明, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
強誘電性HfO₂薄膜におけるナノスケール分極反転ドット書き込み

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
Y添加HfO₂エピタキシャル薄膜における負の電気熱量効果

松尾翔吾, 山田智明, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長崎正雅

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
Y₂O₃-HfO₂強誘電体の温度安定性

三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
スパッタリング法による{100}配向Y₂O₃-HfO₂強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年
配向制御したHfO₂基強誘電体の作製とその強誘電特性評価

舟窪浩, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛

日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM) 2016 2016年
Y添加HfO₂薄膜における強誘電ドメイン反転のSNDM観察

平永良臣, 長康雄, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

電子情報通信学会技術研究報告 116(348(MR2016 30-40)) 2016年
エピタキシャルおよび配向性YドープHfO₂薄膜の強誘電性

清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM) 29th 2016年
固相成長法を用いた強誘電体HfO₂基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価:

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集 54th 2016年
{110}一軸配向ペロブスカイト型酸化物薄膜の作製と結晶構造解析

佐藤智也, 木村純一, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 舟窪浩, 内山潔

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年
走査型非線形誘電率顕微鏡における強誘電性Y:HfO₂薄膜のドメイン反転

CHEN Zhou, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年
固相成長による配向制御したHfO₂基強誘電体薄膜の作製と特性評価

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年
電界印加によるYO_1.5-HfO₂基薄膜の結晶構造変化

清水荘雄, 三村和仙, 片山きりは, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 2016年
HfO₂基強誘電体の結晶構造と特性の熱処理温度依存性

三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 2016年

講演・口頭発表等

High pressure synthesis of ferroelectric bulk Y doped HfO2

Takanori Mimura, Naoki Noda, Yoshiyuki Inaguma

13th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics (KJC-FE13) 2022年9月27日招待有り
Stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 based films

Takanori Mimura, Yu-ki Tashiro, Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Yoshio Katsuya, Osami Sakata

IEEE IFCS-ISAF 2020 Conference 2020年7月20日招待有り

教育業績（担当経験のある科目）

2022年4月 - 現在

基礎科学実験 (学習院大学)
2022年4月 - 現在

化学実験 (学習院大学)
2022年4月 - 現在

化学演習 (学習院大学)

共同研究・競争的資金等の研究課題

任意の特性を発現する新規ハフニア基強誘電体の創生

日本学術振興会科学研究費助成事業特別研究員奨励費 2017年4月 - 2020年3月

三村和仙

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講演・口頭発表等

教育業績（担当経験のある科目）

共同研究・競争的資金等の研究課題

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