Takanori Mimura

(三村和仙)

Profile Information

Affiliation: assistant professor, Gakushuin University

Degree: 博士（工学）(Mar, 2020, 東京工業大学物質理工学院材料系)

Researcher number: 40965802
ORCID ID: https://orcid.org/0000-0003-1358-2962
J-GLOBAL ID: 202201019029384944
researchmap Member ID: R000034961

Research Interests

Research Areas

Nanotechnology/Materials / Inorganic compounds/materials chemistry /

Research History

Sep, 2022 - Present

東京工業大学特別研究員
Apr, 2022 - Present

Gakushuin University
Aug, 2020 - Mar, 2022

Post-Doctoral Research Associate, Department of Materials Science and Engineering, University of Virginia
Apr, 2020 - Jul, 2020

Tokyo Institute of Technology
Apr, 2017 - Mar, 2020

日本学術振興会特別研究員 DC1

Education

Apr, 2017 - Mar, 2020

School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology
Apr, 2015 - Mar, 2017

Tokyo Institute of Technology
Apr, 2013 - Mar, 2015

Civil Engineering, Gunma National College of Technology

Awards

Papers

Data-Driven Analysis of High-Resolution Hyperspectral Image Data Sets through Nanoscale Capacitance–Voltage Measurements to Visualize Ferroelectric Domain Dynamics

Yoshiomi Hiranaga, Yuki Noguchi, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo, Yasuo Cho

ACS Applied Nano Materials, 7(8) 8525-8536, Apr 9, 2024
Phase Identification of 850 nm Thick 7%YO_1.5–93%HfO₂ Films by Surface and Cross-Sectional Raman Spectroscopies

Takanori Mimura, Yuma Takahashi, Takahisa Shiraishi, Masanori Kodera, Reijiro Shimura, Keisuke Ishihama, Kazuki Okamoto, Hiroki Moriwake, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Yasuhiro Fujii, Akitoshi Koreeda, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials, 6(4) 2500-2506, Apr 5, 2024
No‐Heating Deposition of Ferroelectric x%YO1.5–(100−x%)(Hf1−yZry)O2 Films

Takanori Mimura, Reijiro Shimura, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo

physica status solidi (a), Jun 25, 2023
Systematic Investigation of Ferroelectric Properties in x%YO1.5–(100–x%)Hf1–yZryO2 Films

Takanori Mimura, Yuki Tashiro, Takao Shimizu, Hiroshi Funakubo

ACS Applied Electronic Materials, Mar 28, 2023
Origin of Ferroelectric Phase Stabilization via the Clamping Effect in Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide Thin Films

Shelby Fields, Truong Cai, Samantha T. Jaszewski, Alejandro Salanova, Takanori Mimura, Helge H. Heinrich, Michael David Henry, Kyle P. Kelley, Brian W. Sheldon, Jon F. Ihlefeld

Advanced Electronic Materials, 8(12) 2200601-2200601, Dec, 2022

Misc.

Thermal Hysteresis During Ferroelectric Transition in HfO₂-based Materials

三村和仙, 清水荘雄, 清水荘雄, 坂田修身, 坂田修身, 舟窪浩

日本物理学会講演概要集(CD-ROM), 77(1), 2022
Emergence of ferroelectricity in Y-substituted HfO₂

清水荘雄, 清水荘雄, 田代裕貴, 三村和仙, 舟窪浩

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(Web), 34th, 2021
Nanoscale Mapping of Domain Switching Behavior in Ferroelectric Films

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, 2021
Preparation of Y doped HZO ferroelectric thick films at room temperature by the sputtering method and their electrical and piezoelectric properties

志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 清水荘雄, 白石貴久, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 68th, 2021
Raman spectroscopy of ferroelectric HfO₂-based films

高橋雄真, 白石貴久, 小寺正徳, 志村礼司郎, 三村和仙, 森分博紀, 田口綾子, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 82nd, 2021
Noise Reduction by Principal Component Analysis for Local C-V Mapping

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 82nd, 2021
Mechanism for Emergence of Ferroelectricity in HfO₂-based Materials

清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩

セラミックス, 56(7), 2021
HfO₂基薄膜のZr,Yドープによる結晶相変化と強誘電相の安定性

田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集, 58th, 2020
Investigation of the stabilization of the orthorhombic phase using epitaxial HfO₂ based films

三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 67th, 2020
Preparation of HfO₂-based ferroelectric thick film by the sputtering method at room temperature and its electrical properties

志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 67th, 2020
Preparation of HfO₂-based ferroelectric thick films at room temperature by the sputtering method and their electrical and piezoelectric properties

志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 81st, 2020
圧電材料の研究と応用 HfO₂およびZrO₂基強誘電体膜の厚膜化と室温合成

三村和仙, 志村礼司郎, 舟窪浩, 清水荘雄

超音波Techno, 32(5), 2020
強誘電性ハフニア薄膜におけるドメイン構造のイメージング

木口賢紀, 白石貴久, 清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩, 今野豊彦

日本金属学会講演概要(CD-ROM), 164th, 2019
スパッタリング法を用いたY:HfO₂強誘電体厚膜の作製とその電気特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

電子材料研究討論会講演予稿集, 39th, 2019
直方晶相ハフニア薄膜におけるドメイン構造

木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM), 2019, 2019
HfO₂基薄膜の相安定性と機能発現

清水荘雄, 三村和仙, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集, 57th, 2019
PLD法を用いたY,ZrドープHfO₂薄膜の作製と評価

田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集, 57th, 2019
スパッタリング法により配向制御したHfO₂基強誘電体厚膜の作製およびその電気特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 66th, 2019
PLD法を用いたY,ZrドープHfO₂薄膜の作製と評価

田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 66th, 2019
HfO₂基薄膜の電界誘起相転移

田代裕貴, 三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 木口賢紀, 白石貴久, 今野豊彦, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 80th, 2019
スパッタリング法を用いたY:HfO₂強誘電体膜の室温成膜

三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 80th, 2019
エピタキシャル成長したHfO₂基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性

三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM), 2018, 2018
直方晶相ハフニア薄膜のドメイン構造の電子エネルギー損失分光

木口賢紀, CHOI Sujin, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM), 31st, 2018
エピタキシャルHfO₂基強誘電体における強誘電特性の膜厚依存性

三村和仙, 清水荘雄, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 65th, 2018
一軸加圧下熱処理によるBi₂VO_5+δ薄膜の配向性固相結晶化と特性評価

伊藤翔陽, 難波諒太郎, 三村和仙, 金子智, 金子智, 舟窪浩, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 65th, 2018
スパッタリング法によるHfO₂基強誘電体の厚膜化とその電気特性評価

志村礼司郎, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 79th, 2018
時間分解放射光X線回折を用いた菱面体晶PZTにおける非180°ドメインスイッチングの周波数応答特性の評価

清水荘雄, 江原祥隆, 三村和仙, 安井伸太郎, 山田智明, 今井康彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 79th, 2018
STEM-EELS法による直方晶相ハフニア薄膜の結晶構造評価

木口賢紀, 白石貴久, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 今野豊彦

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 79th, 2018
Synthesis and Photoluminescence of (Zn_2-yEu_y)(Ti_xSn_1-x)O₄ (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 0.5) Phosphor

平靖之, 三村和仙, 中村稀星, 中野裕美

材料, 67(6), 2018
Understanding of the basic properties of HfO₂-based ferroelectrics using epitaxial films

舟窪浩, 三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀

応用物理, 87(12), 2018
Y₂O₃-HfO₂エピタキシャル薄膜の構成相の決定因子

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集, 55th, 2017
HfO₂基強誘電体のドメイン構造と電場誘起スイッチング

清水荘雄, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 勝矢良雄, 舟窪浩

エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集, 37th, 2017
スパッタリング法によるY₂O₃-HfO₂強誘電体エピタキシャル薄膜作製とその評価

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 64th, 2017
電界印加下における正方晶Pb(Zr,Ti)O₃膜の結晶構造の時間応答

佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 根本祐一, 清水荘雄, 今井康彦, 内田寛, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 64th, 2017
走査型非線形誘電率顕微鏡を用いたナノスケール分極反転過程の動的観察

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 64th, 2017
エピタキシャルHfO₂基膜における強誘電相の安定性-RE₂O₃-HfO₂vs ZrO₂-HfO₂-

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 64th, 2017
エピタキシャルPZT膜におけるマルチドメイン構造と面内歪の緩和

佐藤智也, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 清水荘雄, 山田智明, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 78th, 2017
強誘電性HfO₂薄膜におけるナノスケール分極反転ドット書き込み

平永良臣, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 78th, 2017
Y添加HfO₂エピタキシャル薄膜における負の電気熱量効果

松尾翔吾, 山田智明, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩, 吉野正人, 長崎正雅

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 78th, 2017
Y₂O₃-HfO₂強誘電体の温度安定性

三村和仙, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 勝矢良雄, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 78th, 2017
スパッタリング法による{100}配向Y₂O₃-HfO₂強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価

鈴木大生, 三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 78th, 2017
配向制御したHfO₂基強誘電体の作製とその強誘電特性評価

舟窪浩, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 内田寛

日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM), 2016, 2016
Observation of Ferroelectric Domain Switching on Y Doped HfO₂ Films Using SNDM

平永良臣, 長康雄, 三村和仙, 清水荘雄, 舟窪浩

電子情報通信学会技術研究報告, 116(348(MR2016 30-40)), 2016
エピタキシャルおよび配向性YドープHfO₂薄膜の強誘電性

清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 木口賢紀, 白石貴久, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM), 29th, 2016
固相成長法を用いた強誘電体HfO₂基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価:

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 舟窪浩

セラミックス基礎科学討論会講演要旨集, 54th, 2016
{110}一軸配向ペロブスカイト型酸化物薄膜の作製と結晶構造解析

佐藤智也, 木村純一, 一ノ瀬大地, 三村和仙, 舟窪浩, 内山潔

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 63rd, 2016
走査型非線形誘電率顕微鏡における強誘電性Y:HfO₂薄膜のドメイン反転

CHEN Zhou, 平永良臣, 清水荘雄, 片山きりは, 三村和仙, 舟窪浩, 長康雄

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 63rd, 2016
固相成長による配向制御したHfO₂基強誘電体薄膜の作製と特性評価

三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩, 舟窪浩

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 63rd, 2016
電界印加によるYO_1.5-HfO₂基薄膜の結晶構造変化

清水荘雄, 三村和仙, 片山きりは, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 77th, 2016
HfO₂基強誘電体の結晶構造と特性の熱処理温度依存性

三村和仙, 清水荘雄, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM), 77th, 2016

Presentations

High pressure synthesis of ferroelectric bulk Y doped HfO2

Takanori Mimura, Naoki Noda, Yoshiyuki Inaguma

13th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics (KJC-FE13), Sep 27, 2022 Invited
Stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 based films

Takanori Mimura, Yu-ki Tashiro, Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Yoshio Katsuya, Osami Sakata

IEEE IFCS-ISAF 2020 Conference, Jul 20, 2020 Invited

Teaching Experience

Apr, 2022 - Present

kisokagaku (Gakushuin University)
Apr, 2022 - Present

Chemistry experiment (Gakushuin University)
Apr, 2022 - Present

Exercise in Chemistry (Gakushuin University)

Research Projects

任意の特性を発現する新規ハフニア基強誘電体の創生

科学研究費助成事業特別研究員奨励費, 日本学術振興会, Apr, 2017 - Mar, 2020

三村和仙

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